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CVD真空气相沉积设备
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LPMS CVD05
紧凑型侧式真空气相沉积设备
真空气相沉积设备是一种用于电子产品防水保护的镀膜设备。工作时把含有构成薄膜元素的化合物(长链性高分子材料,一般为派瑞林Parylene)、单质气体经过升华、热解后进入放置产品的真空反应室,借助空间气相化学反应, 在产品表面上沉积生成0.1-100um的厚度均匀,无应力、优异的电绝缘性和防护性、防潮、防霉、防腐、防盐雾涂层材料薄膜涂层。
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LPMS CVD12
侧式真空气相镀膜设备
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